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      清洗模塊
      QW系列在位清洗泵站
      用途
      該機主要用于制藥工業固體制劑生產過程中,與濕法混合制粒機沸騰制粒機、包衣機等設備配套使用,以實現其在位清洗功能。同時在制藥、化工、食品等行業中廣泛使用。
      原理
      該機由泵站、清洗系統、控制系統等組成。工作時,將清洗組件對接到配套設備的各清洗點接口,做好清洗的準備。按工藝要求設定清洗程序,確認后按設定的程序清洗設備腔體內表面;還可外接高壓水槍,在清洗區域由人工清洗設備外表面和輔件。清洗過的設備經過干燥處理,以備待用。
      特點
      該機是我司廣泛吸收、消化國外先進技術,結合國情研發成功的新機型,結構合理,性能穩定,操作方便,可以一機多用,減輕勞動強度,優化了生產工藝,完全符合藥品生產的GMP要求。
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